專利申請一覽表
序 號 類別 申 請國家 專利名稱 案件狀態
專利案號
專利權期間 頒 證日
 
   
   
PATEN NUMBER
 
1
UFO
台灣
高介電質薄膜之低溫濕蝕刻方法
專利已獲准
發明第I256688 號
2006/6/11
2022/1/31
 
2
UFO
日本
高介電質薄膜之低溫濕蝕刻方法
專利已獲准
特許第3652324 號
2005/3/4
2022/5/16
 
3
UFO
美國
Puddle Etching Method of Thin Film by Using Spin-processor
專利已獲准
US 6,793,836 B2
2002/7/5
2022/7/4
2004/9/21
4
UFO
美國
Method for Wet Etching of High k Thin Film at Low Temperature
專利已獲准
US 7,115,526 B2
2002/3/18
2022/3/17
2006/10/3
5
UFO
台灣
利用旋轉機台之薄膜蝕刻方法
專利已獲准
發明第187047號
2003/9/21
2022/4/16

6
UFO
台灣
化學機械研磨(CMP)之線上 漿液再生循環利用之方法及裝置
專利已獲准
發明字第 Ι235091號
2005/7/1
2022/10/3
 
7
Bench
台灣
碳化矽及低介電常數薄膜之清除 方法與裝置 (原)
專利已獲准
發明第192924號
2003/11/11
2022/10/3
 
8
Bench
台灣
基板洗淨系統及其洗淨方法
專利已獲准
發明第168861號
2002/12/1
2020/9/10
 
9
Bench
台灣
晶圓濕蝕刻夾持治具
專利已獲准
發明第220289號
2004/8/11
2023/3/31
 
10
UFO
台灣
金屬圖案撕去設備除去金屬碎片 之裝置及方法
專利已獲准
發明字第 Ι236708號
2005/7/21
2023/4/9
 
11
Bench
台灣
光阻去除裝置及方法
專利已獲准
發明第202873號
2004/6/1
2023/3/31
 
12
Bench
台灣
晶圓之水分去除裝置及方法
專利已獲准
發明第203083號
2004/5/21
2023/3/31
 
13
UFO
台灣
單晶圓旋轉蝕刻機台之流體收集 裝置
專利已獲准
發明第200871號
2004/4/21
2023/4/9
 
14
IPA Dryer
台灣
晶圓乾燥方法
專利已獲准
發明字第 Ι236061號
2005/7/11
2023/8/20
 
15
IPA Dryer
台灣
晶圓清洗及乾燥之裝置
專利已獲准
發明字第 Ι238463號
2005/8/21
2023/8/20
 
16
UFO
台灣
金屬化合物的蝕刻方法以及使用 此蝕刻方法製造電晶體之閘極的方法
專利已獲准
TSMC
 
 
 
17
UFO
台灣
旋轉機台以複數組夾指夾持晶圓 之裝置
專利已獲准
發明字第 Ι256101號
2006/6/1
2025/3/6
 
18
UFO
台灣
具多孔片狀液體去除裝置之清洗蝕刻機台
專利已獲准
發明字第Ι256101號
2006/6/1
2025/5/23
 
19
Electroplating
台灣
晶圓電鍍夾具
專利已獲准
發明字第Ι266398號
2006/11/11
2025/9/19
 
20
UFO
美國
Wet Processsing Apparatus
專利已獲准
6,027,602
 
 
 
21  UFO 台灣 複數組夾指挾持晶圓裝置之機械構造
專利已獲准
發明字第 Ι295831號 2008/04/11 2025/3/6
22
台灣
太陽電池之多層PIN接面響應曲線之量測系統及方法
專利已獲准
發明字第 I341596號
2011/5/1
2027/10/27
 
23

台灣
具有冷卻底座之加熱板
專利已獲准
發明字第 I317804號
2009/12/1
2027/11/15
 
24
大陸
旋轉機台以複數組夾指夾持晶圓裝置之機械構造
專利已獲准
ZL 2005 I 0059872.6
2008/11/26
2025/3/31
 
 
 
 
Grand Plastic Technology Corporation
No.13, Datong Rd., Hsinchu Industrial Park Taiwan 30352 R.O.C. Tel: 886-3-5972353 Fax: 886-3-5972352
Copyright (c) Grand Plastic Technology Corporation. All rights reserved.