Mask Clean

Mask clean 光罩清洗机目前主要产品应用于清洗9吋及14吋光罩，清洗方式为利用旋转光罩配合高压水、毛刷清洗或是化学品喷洒于光罩上去除沾黏的光阻。
 
光罩上常因曝光制程中沾黏之光阻造成不同程度的脏污，常见用于清洗的化学品有氢气化钾、硫酸、NMP等，配合化学品的使用，光罩清洗机本身构造及清洗室的内部对于不同化学品也会有相对应的抗酸硷材质，机台的回收过滤系统，可减少化学品的使用量。机台另有配合客制化需求，如採用高压水清洗的物理方式，物理和化学清洗技术相结合的方式如毛刷搭配溶剂来去除有机和无机污染物。