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台灣半導體濕製程設備領導品牌
About Us 關於我們
A leading brand of semiconductor

台灣半導體濕製程設備領導品牌

弘塑科技擁有堅強的研發設計團隊、數百項製程技術專利,並與日本、德國等國外公司合作,從設計開發、系統製作、組裝、測試、產品安裝到售後服務,針對客戶的需求快速反應,提昇產品品質與良率,完美處理各種濕製程難題

Product
Introduction

產品介紹

提供客戶先進濕製程設備及製程應用的完整解決方案

上億打造超潔淨實驗室,投入龐大資源進行創新研發,贏得客戶信賴並在各種挑戰中持續成長

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單晶圓旋轉設備
UFO系列、UFO-A 系列
單晶圓旋轉設備

隨著半導體製程條件的持續緊縮,單片晶圓內以及片與片之間的製程條件一致性及再現性更顯重要,單晶圓旋轉設備可透過自動化的機器手臂傳送及精準定位,製程腔體透過彈性參數設定可精準控制化學反應以滿足製程需求,同時設備佔地面積小,搭載藥液回收系統、藥液蝕刻終點監控、雙面清洗等功能,協助客戶降低生產成本,適用於Metal Etch, Silicon Etch, Oxide Etch, PR Strip, Wafer Clean, Mask Clean等製程應用

批次式酸槽設備
VAN系列 、DIO系列
批次式酸槽設備

展現高度客製化機種,透過酸槽配置,進行浸泡式製程,搭配溫控機制、流場循環、上下晃動、超音波震盪、混酸補酸機制、乾燥機制等等功能,最佳化製程條件,同時具備高產出、低成本的優勢,同時可處理各種尺寸晶圓及基板,適用於Metal Etch, Silicon Etch, Oxide Etch, Nitride Etch, PR Strip, RCA Clean, Glass Clean, Electric Plating, Electroless Plating等製程應用

複合式製程設備
UFO-C系列
複合式製程設備

隨著半導體製程演進,線寬線距持續微縮,以及2.5D/3D先進封裝製程持續發展,多功能濕製程設備愈趨重要,複合式製程設備可整合酸槽浸泡及單晶圓旋轉腔體於同一機台內,最佳化化學力及物理力於濕製程中,達到最佳去除效果,適用於PR Strip, Metal Lift Off, Carrier Recycle等製程應用

Applications and Solutions

高階濕製程設備應用與解決方案

Solution 解決方案

數百項製程設備技術專利,快速回應客戶需求,產品品質與良率的提升

先進構裝
先進構裝

先進構裝

著重於凸塊製程的研究與先進設備開發
IC前段製程
IC前段製程

IC前段製程

提供光罩清洗,晶圓清洗,與應力緩解的設備
光電產業
光電產業

光電產業

提供 GaAs 濕法蝕刻、金屬剝離、PSS 磷酸蝕刻、RCA 清洗和粗糙度的製程應用
Honsu Group 弘塑集團
About
Honsu Group

關於弘塑集團

在半導體製造、先進封裝、化合物半導體、離散元件、電力電子濕製程設備領域深耕多年,近十年來致力於產業面向上的開拓與整合

濕製程設備開發、設計、製造,提供客戶高品質、高效能、低維護成本的生產設備
半導體封裝、Mini/Micro LED等領域生產製造使用之特殊配方化學品。包括多種類金屬蝕刻液、粗化液、環保型去光阻液、奈米雙晶銅電鍍添加液等產品
半導體製造所需的檢驗、量測設備,包括應用超聲波、紅外光、可見光、UV到X-ray波段的設備,以及化合物半導體生產設備及材料代理。另外在真空冷凍泵零組件的開發、設計、製造或是整機翻修、機械手臂翻修維護也是執業界內翹楚
耕耘於工業大數據20年,致力於工程資料分析運用軟體方案之開發,並且提供工業界在品質與精實製造的解決方案
濕製程設備開發、設計、製造,提供客戶高品質、高效能、低維護成本的生產設備
半導體封裝、Mini/Micro LED等領域生產製造使用之特殊配方化學品。包括多種類金屬蝕刻液、粗化液、環保型去光阻液、奈米雙晶銅電鍍添加液等產品
半導體製造所需的檢驗、量測設備,包括應用超聲波、紅外光、可見光、UV到X-ray波段的設備,以及化合物半導體生產設備及材料代理。另外在真空冷凍泵零組件的開發、設計、製造或是整機翻修、機械手臂翻修維護也是執業界內翹楚
耕耘於工業大數據20年,致力於工程資料分析運用軟體方案之開發,並且提供工業界在品質與精實製造的解決方案
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