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光罩清洗机 (Photomask Cleaning)
The purpose of the equipment is a clean system for 150mm EUV mask backside cleaning process.
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圖1-1、機台左側視圖
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圖1-2、機台右側視圖
主機各模組位置說明 (如左圖2)
- Loadport：各光罩盒進出放置口
- Robot：光罩傳輸用
- Mask flipper：光罩翻轉用
- AP+USC chamber：電漿與超音波清潔光罩區
- Clean chamber：毛刷清洗光罩區
- AP controller：電漿模組控制區
- CDM：clean chamber管路區
- 次模組：其他附屬設備
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圖3-1、EFEM 光罩翻轉模組
由於製程過程需要翻轉光罩，以順利清洗光罩背面，因此將由此模組進行 -
圖3-2、EFEM 光罩傳輸ROBOT
光罩於各站傳遞，皆由此robot傳送，並配合光罩盒需求，有兩種夾爪應對
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圖4-1、內有光罩夾持模組
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圖4-2、Robot交接mask進入Chamber_1
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圖5-1、Chamber_1 AP+UCS HEAD
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圖5-2、控制人機與硬體按鈕
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圖6-1、Clean Chamber_2
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圖6-2、Clean Chamber_2
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圖7、機台電控區
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圖8、機台管路區
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圖9、機台次系統