Mask Clean

Mask clean 光罩清洗機目前主要產品應用於清洗9吋及14吋光罩，清洗方式為利用旋轉光罩配合高壓水、毛刷清洗或是化學品噴灑於光罩上去除沾黏的光阻。
 
光罩上常因曝光製程中沾黏之光阻造成不同程度的髒污，常見用於清洗的化學品有氫氣化鉀、硫酸、NMP等，配合化學品的使用，光罩清洗機本身構造及清洗室的內部對於不同化學品也會有相對應的抗酸鹼材質，機台的回收過濾系統，可減少化學品的使用量。機台另有配合客制化需求，如採用高壓水清洗的物理方式，物理和化學清洗技術相結合的方式如毛刷搭配溶劑來去除有機和無機污染物。